日本水質測試包的使用方法：①拔出管子頭部的線。②使孔朝上，用手牢牢捏住管子下半部，排出上部空氣。③保持圖2的捏住管子的狀態，將洞插入杯，松開手指，吸入被測水（檢測的水是管的一半）④輕輕震搖5－6次，在的時間吸入的被測水的變色與標準色卡進行比較，查找相同或相似顏色，該處所示的數值即為所測水質的濃度值。日本水質測試包的應用范圍：工程管理—原物料品管，殘留量檢查，一般用水／循環用水／鍋爐用水等管理。排水管理—zui終放流水確認，污水處理設施運轉管理，設備驗收，異常處理，異常早期發現...

酸性蝕刻自動分析，也叫氯化銅酸性蝕刻系統，通常使用于單面板蝕刻、多層板的內層蝕刻或外層蝕刻上。因這些制程都用干膜或液態感光油墨作為蝕刻阻劑，而這幾種感光材料相對而言均為耐酸不耐堿性的特性，故選用酸性蝕刻。酸性蝕刻自動分析系統類型簡介1.三氯化鐵蝕刻液﹕其再生困難，污染嚴重，廢液難處理等而正在被淘汰（Fe3+50%）。2.硫酸—雙氧水蝕刻液﹕由于蝕刻速度較低，其一般用于圖形電鍍、內外層壓膜前處理（適于薄銅）。3.氯酸鹽蝕刻液﹕具有蝕刻速度穩定，溶銅量大，蝕刻液易再生和回收，能減...

本產品由深圳市瑞思遠科技有限公司代理進口廠家，專業用于電鍍鎳/銅或化學鎳/銅分析監測系統廣泛用于印制電路板成形處理及電鍍行業電鍍鎳/銅鍍膜工藝設計的分析監測。本產品可以在要求下馬上測定出鎳或銅的濃度值。無需人工滴定化學方法測試，省去了因人為肉眼觀測顏色有誤而帶來的分析誤差。是化學廠商，電鍍工廠，科研機構，廢水處理和學校的*。歡迎各大廠商仔細閱讀下文，咨詢問價。標價不是zui終成交價格。測定原理采用吸光光度法測定原理，光線透過光學受光側的回饋吸收比例，再經信號放大器計算轉換為鎳...

覆銅板在化學沉銅時要進行前處理，微蝕作為前處理的重要環節有著積極的作用。微蝕，又可稱為表面粗化，它一方面能夠去除銅箔表面的氧化層，一方面能利用微蝕刻溶液從銅基體表面上蝕刻掉1um~2um的銅，有助于提高銅箔表面和化學銅之間的結合力。然而粗化銅箔的深度要適當，粗化過量會導致銅和藥水的浪費，嚴重時甚至會造成基體裸露，粗化不足則會降低基銅表面與化學鍍銅的結合力。為了得到良好的粗化效果就需要確定合適的粗化速率?！褚虼吮竟局饕獙τ绊懗零~效果的微蝕工序進行了研究，研發了測試銅含量的自動...

化學鍍鎳技術（無電解鎳技術）是當今世界主要工業國家大力提倡和的一種新型金屬表面處理技術，被廣泛應用于各類五金零件、機械配件、電子連接零件、模具及航天通訊零件等，均可上鍍于鋼、鐵、銅、鋁及合金等金屬，化學鍍鎳與傳統電鍍對比有著諸多的優點：1.化學鍍鎳整個工藝流程有很好的環保性，它能確保整個生產環節不使用不產生對人體和環境有害的及歐盟ROHS指令規定的鉛Pb，汞Hg，鎘Cd,六價格鉻Cr，多PBB，多醚PBOE六種有害物質。2.鍍層厚度非常均勻，化學鍍液的分散力接近100%，無明...

觸摸屏（TP）技術分為電阻式、表面電容式、投射電容式、表面聲波式和紅外線式，其中，電容式觸摸屏廣泛應用于移動設備和消費電子產品。觸摸屏技術方便了人們對計算機的操作使用，是一種極有發展前途的交互式輸入技術，因而受到各國的普遍重視，并投入大量的人力、物力對其進行研發，新型觸摸屏不斷涌現。摻錫氧化銦（IndiumTinOxide,簡稱ITO）薄膜是一種半導體材料，具有優異的光電特性和導電性，在觸摸屏技術方面得到了廣泛的應用。在電容式觸摸屏玻璃基板表面進行ITO濺鍍后，使其成為雙面I...

氨基磺酸鎳（Nickelaminosulfonate），別名磺酰胺酸鎳，化學式Ni(NH2SO3)2，一般為四水合物的形式。性質:綠色易潮解結晶，易溶于水。加熱至高溫時失去結晶水并分解。制備:氨基磺酸與氫氧化鎳進行反應生成氨基磺酸鎳，再經濃縮、結晶、離心分離，制得成品。用途:氨基磺酸鎳主要用于精密電鍍，它的優點是鍍層的內應力低，沉積速度快。氨基磺酸鎳配方：氨基磺酸鎳300-450g/l氯化鎳：2-15g/l硼酸：30-45g/lPH值：3.5-4.5溫度:40-60度陰極電流...

一、離子交換柱操作及分析試驗方法的原因排除當供水緊張而備用設備較少時，運行人員因設備發生故障易產生緊張急躁的情緒。急躁情緒無助于問題的判斷和解決，我廠曾發生過一件事例：即多臺運行陽離子交換器在一段時間內周期制水量大幅度下降，出水水質時好時壞，檢修人員打開設備檢查后，未能發現其內部裝置存在缺陷，化驗人員通過生水和樹脂的分析，確定了水質和樹脂性能的情況變化不大，因原因不明，故障判定的條件不充分，陽離子交換器的故障不能及時排除，生產一度陷入被動的局面。后來技術人員發現，運行分析人員...

酸性蝕刻自動分析工藝是用離子膜將電解槽的陽極區和陰極區分隔成兩個獨立的區域。陽極區將降銅后的廢蝕刻液中的一價銅離子通過電化學反應生成二價銅離子，使廢蝕刻液獲得再生;陰極區通過離子隔膜有選擇性的使溶液中的離子定向遷移，讓溶液中的銅離子得到電子還原成零價銅。1、酸性蝕刻自動分析采用"離子膜電解銅"工藝：該工藝是用離子膜將電解槽的陽極區和陰極區分隔成兩個獨立的區域。陽極區為廢蝕刻液再生區，它將降銅后的廢蝕刻液中的一價銅離子通過電化學反應生成二價銅離子，使廢蝕刻液獲得再生;陰極區為銅...

（1）化學鍍鎳自動分析沉積速度低a鍍液pH值過低：測pH值調整，并控制pH在下限值。雖然pH值較高能提高沉速，但會影響鍍液穩定性。b鍍液溫度過低：要求溫度達到規范時下槽進行施鍍。新開缸*批工件下槽時，溫度應達到上限，反應開始后，正常施鍍時，溫度在下限為好。c溶液主成分濃度低：分析調整，如還原劑不足時，添加還原補充液；鎳離子濃度偏低時，添加鎳鹽補充液。對于上規模的化學鍍鎳，設自動分析、補給裝置是必要的，可以延長連續工作時間（由30h延至56h）和鎳循環周期（由6周延至11周）。...